無(wú)掩膜光刻機

• 型 號：UTA-IA
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• 更新時(shí)間：2024-03-13
• 價(jià)   格：

無(wú)掩膜光刻機UTA系列是將DLP投影儀盒金相顯微鏡相結合的縮小投影型無(wú)掩模曝光系統，其傳統系統（用于掩膜光刻的圖案投影曝光系統） 可以使用專(zhuān)門(mén)為此目的開(kāi)發(fā)的軟件來(lái)創(chuàng )建想要的圖案。

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無(wú)掩膜光刻機裝置概述：

• 顯微鏡LED曝光單元UTA系列是不需要掩模的用于光刻的圖案投影曝光裝置。

• 使用金相顯微鏡盒LED光源DLP投影儀，將具有機微米分辨率的任意圖案投影到涂有抗蝕劑的基板上進(jìn)行曝光。

• 圖案可以在PC上自由創(chuàng )建。

• 因為可以在普通的室內環(huán)境中在各種大小盒形狀的單晶薄片上形成電極，所以它比電子束光刻便宜且簡(jiǎn)單，不需要制造昂貴的電極圖案掩膜。

無(wú)掩膜光刻機應用：

• 薄膜FET和霍爾效應測量樣品的電極形成。

• 從石墨烯/鉬原石中剝離電極形成并評估其特性。

• 研發(fā)應用的圖案形成。

參數：

• 由于顯微鏡和DLP的結合，可以用很低的成本來(lái)構建系統。

• 易于使用的軟件可以輕松的創(chuàng )建曝光圖案。

• 通過(guò)物鏡放大倍率圖案，可以進(jìn)行大范圍的批量曝光。

• 可以連接到您自己的顯微鏡上（選項）。

• 分辨率在微米級。

• 曝光范圍：大2.5mm×1.5mm   小100um×60um。

• 可以連接到您自己的顯微鏡上（選項）。

• 分辨率在微米級。

• 曝光范圍：大2.5mm×1.5mm  小100um×60um。